Fujifilm XF 50mm F2 R WR Black: L'Essenza del Ritratto CompattoIl Fujifilm XF 50mm F2 R WR in finitura nera è...
€ 449,00
FUJIFILM XF56mm F1.2.R WR II - GARANZIA FUJIFILM ITALIA
Ideale per la ritrattistica, il FUJIFILM XF 56mm f/1.2 R WR è un'iterazione resistente alle intemperie del loro lodato obiettivo equivalente da 85 mm. Notoriamente distinto per la sua apertura massima f/1.2 estremamente veloce, l'ottimo isolamento del soggetto e la piacevole resa dei colori, questa revisione aggiorna anche la formula ottica aggiungendo elementi asferici al gruppo di messa a fuoco, una distanza di messa a fuoco notevolmente migliorata di 1,6' e un 11- diaframma di apertura a lama arrotondata per un migliore effetto bokeh.
Il design ottico impiega sia elementi asferici che a bassissima dispersione, che aiutano a ridurre una varietà di aberrazioni, frange di colore e distorsione al fine di ottenere un'elevata nitidezza e chiarezza. Viene utilizzato anche un rivestimento Super EBC per ridurre i bagliori e le immagini fantasma per migliorare il contrasto e la precisione del colore in condizioni luminose e retroilluminate. Un diaframma a undici lamelle arrotondato offre luci sfocate morbide e piacevoli. Questa lente interamente in metallo utilizza nove guarnizioni in gomma per proteggerla da polvere e umidità, pur mantenendo la piena funzionalità a temperature fino a 14°F. L'elemento frontale rivestito di fluoro, nel frattempo, è progettato per respingere acqua, impronte digitali e altri segni per aiutare a mantenere alta la qualità dell'immagine quando il tempo si volge contro di te.
L'obiettivo con lunghezza verticale principale è progettato per le fotocamere mirrorless Fujifilm X-mount in formato APS-C e offre una lunghezza focale equivalente a 85 mm.
Produce risultati ad alta risoluzione e privi di aberrazioni ricchi di dettagli e colori. Ideale per ritratti, matrimoni e qualsiasi altra applicazione creativa che richieda un controllo preciso sulla profondità di campo, l'obiettivo XF 56mm f/1.2 R WR offre incredibili prestazioni di risoluzione delle immagini fino alla distanza minima di messa a fuoco di 1,6', rendendolo un ritratto ideale obiettivo, ma adatto anche per altre applicazioni nell'ambito della fotografia da tavolo, di prodotto e commerciale.
La sua costruzione ottica comprende 13 elementi in otto gruppi, tra cui un ED e due elementi asferici. Gli otto elementi utilizzati nel gruppo di messa a fuoco adottano la tecnologia ad alta rifrazione degli obiettivi cinematografici FUJINON per ridurre al minimo le aberrazioni cromatiche, sferiche e comatiche. Ciò aiuta a ridurre al minimo l'effetto bleeding della luce all'interno delle alte luci, migliorando la qualità dell'immagine e i dettagli del soggetto durante il processo.
L'apertura massima f/1.2 particolarmente luminosa eccelle in condizioni di scarsa illuminazione e offre un notevole controllo sulla profondità di campo per l'utilizzo di tecniche di messa a fuoco selettiva.
Il rivestimento Super EBC è stato applicato ai singoli elementi per ridurre il riflesso dell'obiettivo e il ghosting per migliorare il contrasto e la fedeltà dei colori quando si lavora in condizioni di forte illuminazione.
Il diaframma a undici lamelle arrotondato contribuisce a una piacevole qualità fuori fuoco a vantaggio dell'uso della messa a fuoco selettiva e delle tecniche di profondità di campo ridotta.
Ideale per la ritrattistica, il FUJIFILM XF 56mm f/1.2 R WR è un'iterazione resistente alle intemperie del loro lodato obiettivo equivalente da 85 mm. Notoriamente distinto per la sua apertura massima f/1.2 estremamente veloce, l'ottimo isolamento del soggetto e la piacevole resa dei colori, questa revisione aggiorna anche la formula ottica aggiungendo elementi asferici al gruppo di messa a fuoco, una distanza di messa a fuoco notevolmente migliorata di 1,6' e un 11- diaframma di apertura a lama arrotondata per un migliore effetto bokeh.
Il design ottico impiega sia elementi asferici che a bassissima dispersione, che aiutano a ridurre una varietà di aberrazioni, frange di colore e distorsione al fine di ottenere un'elevata nitidezza e chiarezza. Viene utilizzato anche un rivestimento Super EBC per ridurre i bagliori e le immagini fantasma per migliorare il contrasto e la precisione del colore in condizioni luminose e retroilluminate. Un diaframma a undici lamelle arrotondato offre luci sfocate morbide e piacevoli. Questa lente interamente in metallo utilizza nove guarnizioni in gomma per proteggerla da polvere e umidità, pur mantenendo la piena funzionalità a temperature fino a 14°F. L'elemento frontale rivestito di fluoro, nel frattempo, è progettato per respingere acqua, impronte digitali e altri segni per aiutare a mantenere alta la qualità dell'immagine quando il tempo si volge contro di te.
L'obiettivo con lunghezza verticale principale è progettato per le fotocamere mirrorless Fujifilm X-mount in formato APS-C e offre una lunghezza focale equivalente a 85 mm.
Produce risultati ad alta risoluzione e privi di aberrazioni ricchi di dettagli e colori. Ideale per ritratti, matrimoni e qualsiasi altra applicazione creativa che richieda un controllo preciso sulla profondità di campo, l'obiettivo XF 56mm f/1.2 R WR offre incredibili prestazioni di risoluzione delle immagini fino alla distanza minima di messa a fuoco di 1,6', rendendolo un ritratto ideale obiettivo, ma adatto anche per altre applicazioni nell'ambito della fotografia da tavolo, di prodotto e commerciale.
La sua costruzione ottica comprende 13 elementi in otto gruppi, tra cui un ED e due elementi asferici. Gli otto elementi utilizzati nel gruppo di messa a fuoco adottano la tecnologia ad alta rifrazione degli obiettivi cinematografici FUJINON per ridurre al minimo le aberrazioni cromatiche, sferiche e comatiche. Ciò aiuta a ridurre al minimo l'effetto bleeding della luce all'interno delle alte luci, migliorando la qualità dell'immagine e i dettagli del soggetto durante il processo.
L'apertura massima f/1.2 particolarmente luminosa eccelle in condizioni di scarsa illuminazione e offre un notevole controllo sulla profondità di campo per l'utilizzo di tecniche di messa a fuoco selettiva.
Il rivestimento Super EBC è stato applicato ai singoli elementi per ridurre il riflesso dell'obiettivo e il ghosting per migliorare il contrasto e la fedeltà dei colori quando si lavora in condizioni di forte illuminazione.
Il diaframma a undici lamelle arrotondato contribuisce a una piacevole qualità fuori fuoco a vantaggio dell'uso della messa a fuoco selettiva e delle tecniche di profondità di campo ridotta.
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